%A 王聪,杨广东,胡尊艳,陈林祺,任思琪 %T 种植密度对高粱冠层结构及光辐射特征的影响 %0 Journal Article %D 2017 %J 作物杂志 %R 10.16035/j.issn.1001-7283.2017.05.020 %P 119-123 %V 33 %N 5 %U {http://zwzz.chinacrops.org/CN/abstract/article_5685.shtml} %8 2017-10-15 %X

本研究旨在探讨种植密度对高粱冠层结构及光辐射特征的影响。试验设4个密度处理分别为15.4万、19.2万、25.6万和38.5万株/hm 2,以绥杂7为试验品种,采用随机区组设计,小垄双行种植。结果表明在25.6万株/hm 2种植密度条件下,产量显著高于其他处理,此密度处理生育后期群体叶面积指数降幅较小,光合有效辐射值上升较大,消光系数较大,叶片分布极差小,冠层结构及光分布均较优,利于高粱叶片的光合生产及产量的增加。本研究认为25.6万株/hm 2是优化高粱冠层结构,提高其产量的合理种植密度。